Back
Продано

Маска для лица, шеи и декольте Восстановление упругости с гиалуроновой кислотой и имбирем, Lift Intense Витекс

118грн

Бренд

Серия

Объем

100 мл.

Возраст

35+, 40+, 45+, 50+, 55+, 60+, 65+

Назначение

, , ,

Нет в наличии

Артикул: 4810153013927 Категории: , , Метка:
Описание

Маска разработана для интенсивного увлажнения, подтягивания и восстановления кожи.

В основе маски гиалуроновая кислота и имбирь, которые наполняют кожу живительной влагой, подтягивают и укрепляют контуры лица.

Масла камелии и дамасской розы питают и насыщают кожу витаминами, разглаживают морщины и предупреждают преждевременное старение.

Розовая и белая глины глубоко очищают кожу, стимулируют обменные процессы, возвращая лицу здоровый цвет и свежесть.

Результат: кож становится подтянутой, эластичной и упругой. Цвет лица приобретает свежий, здоровый вид.

Состав: вода, вазелин, глицерин, сорбитанлаурат, полиглицерил-4 лаурат, дилаурилцитрат, цетеариловый спирт, глицерилстеарат, каолин, масло Butyrospermum parkii (ши), ПЭГ-32, сополимер акрилоилдиметилтаурата аммония и винилпирролидона, диметикон, гиалуронат натрия, масло Camelia Sasanqua (камелии), экстракт корня Zingiber Officinale (имбиря), каолин, бетаин, воск пчелиный синтетический, метилпарабен, парфюмерная композиция, изопропилмиристат, масло зародышей Triticum vulgare (пшеницы), токоферилацетат, БГТ, альгин, эластин, глицерин, растворимый коллаген, гиалуроновая кислота, молочная кислота, карбамид, сорбитол, триэтиленгликоль, ПЭГ-40 гидрогенизированное касторовое масло,тридецет-9, серин, экстракт лепестков Rosa Damascena (розы), масло Rosa Damascena (розы), хлорид натрия, гидроксид натрия, аллантоин, триэтаноламин, пропилпарабен, аллантоин, бензиловый спирт, метилхлоризотиазолинон, метилизотиазолинон, бутилфенилметилпропиональ

Отзывы (0)

Отзывы

Отзывов пока нет.

Отображать только отзывы на RU (0)

Будьте первым, кто оставил отзыв на “Маска для лица, шеи и декольте Восстановление упругости с гиалуроновой кислотой и имбирем, Lift Intense Витекс”

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *